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第423章 任重道远碳基芯片（第1页）

听完众设备企业负责人的情况介绍，常乐心里有了一个大概的底。

他说：

“诸位，我是门外汉，但听完各位的介绍，知道EUV难度很大、要求很高。”

“不是短时间能够攻破，需要拿出比dUV光刻机更多的时间来积累和探索。”

“这个可以接受，毕竟我们积累的欠账太多，总要还的。”

“不过，路再难、也要走；山再高、也要爬。”

“半导体这条路，我们不会有任何外部助力，只会有更多技术阻力。”

“希望在座各位不懈怠、不停步、不动摇……”

“继续保持昂扬的思想定力，保持通力合作的协助精神，持之以恒、持续发力，把这一颗皇冠明珠摘下来。”

“我代表乐达投资表个态，只要你们有技术突破，资金绝对不会少。”

现场掌声。

会议结束。

常乐和梁青松没有留在Smee吃饭，而是前往华红半导体。

路上，常乐问梁青松：

“梁总，有没有办法，短期内可以绕开EUV光刻机？”

“绕开？”梁青松凝神想了想，遗憾摇头说道：

“据我所知，目前学界还没有出现新的理论体系，只要想在半导体行业深耕，就必须要有EUV光刻机。”

“哎……”常乐叹气。

光刻机不比材料，无论物镜和光源，需要的不是试错，而是时间和经验的积累。

“老板，即便有另外的技术路线，我认为研发难度不会比EUV光刻机小。”梁青松说：

“毕竟EUV已经有成功例子，而其他尚处于无人区。”

“你说的我懂，那你说光刻厂可能吗？”常乐问。

“光刻厂？”梁青松不明白。

“就是用粒子加速器来实现稳定光源的……”常乐解释。

“哦……老板，您还知道稳态微聚束？”梁青松听懂了。

光刻厂的理论基础就是稳态微聚束。

通过粒子加速器获得高功率、窄带宽的辐射光。

这些辐射光的波长可以覆盖太赫兹到极紫外波段，也就是全覆盖。